- 真空镀膜技术与应用
- - 作者：编者:陆峰|责编:戴燕红
  - 出版社：化学工业
  - ISBN：9787122402455
  - 出版日期：2022/03/01
  - 页数：335
- 售价：55.2

内容大纲
本书共9章，主要阐述了真空镀膜技术应用，具体介绍了近代真空镀膜方法。内容包括真空蒸发镀膜，真空溅射镀膜，真空离子镀膜，离子束（辅助）沉积，化学气相沉积的原理、特点、装置及应用；本书还对所制备薄膜的测量技术、性能分析方法做了详细的介绍。
本书适合从事真空镀膜技术、薄膜与表面工程、材料工程等领域的研究、设计、设备操作及维护工作的技术人员阅读参考，也可作为真空相关专业的本科生及研究生教材。
作者介绍
目录
第1章  真空镀膜技术概论
  1.1  概述
  1.2  影响固体表面结构、形貌及其性能的因素
    1.2.1  原子和分子构成固体物质
    1.2.2  多晶体物质结构
    1.2.3  材料受到的各种应力负荷
    1.2.4  材料加工所带来的缺陷
    1.2.5  基片表面涂敷硬质薄膜的必要性
  1.3  基片与薄膜的匹配
    1.3.1  基片的表面形貌、热膨胀系数对薄膜的影响
    1.3.2  基片与薄膜的选择原则
  1.4  真空镀膜及其工艺特点和应赋予涂层的功能
  1.5  薄膜的特征
    1.5.1  薄膜的结构特征
    1.5.2  金属薄膜的电导特征
    1.5.3  金属薄膜电阻温度系数特征
    1.5.4  薄膜的光学特征
    1.5.5  薄膜的密度特征
    1.5.6  薄膜的时效变化特征
  1.6  薄膜的应用
    1.6.1  电子工业用薄膜
    1.6.2  光学工业中应用的各种光学薄膜
    1.6.3  光伏产业中薄膜的应用
    1.6.4  刀具行业中薄膜的应用
    1.6.5  机械、化工、石油等工业中应用的硬质膜、耐蚀膜和润滑膜
    1.6.6  有机分子薄膜
    1.6.7  民用及食品工业中的装饰膜和包装膜
  1.7  真空镀膜的发展历程及最新进展
  参考文献
第2章  真空镀膜技术基础
  2.1  真空镀膜物理基础
    2.1.1  真空及真空状态的表征和测量
    2.1.2  气体的基本性质
    2.1.3  气体的流动与流导
    2.1.4  气体分子与固体表面的相互作用
  2.2  真空镀膜低温等离子体基础
    2.2.1  等离子体及其分类与获得
    2.2.2  低气压下气体的放电
    2.2.3  低气压下气体放电的类型
    2.2.4  低气压下冷阴极气体辉光放电
    2.2.5  低气压非自持热阴极弧光放电
    2.2.6  低气压自持冷阴极弧光放电
    2.2.7  磁控辉光放电
    2.2.8  空心冷阴极辉光放电
    2.2.9  高频放电
    2.2.10  等离子体宏观中性特征及其中性空间强度的判别
  2.3  薄膜的生长与膜结构
    2.3.1  膜的生长过程及影响膜生长的因素
    2.3.2  薄膜的结构及其结构缺陷
  2.4  薄膜的性质及其影响因素

    2.4.1  薄膜的力学性质及其影响因素
    2.4.2  薄膜的电学性质
    2.4.3  薄膜的光学性质及其影响膜折射率的因素
    2.4.4  薄膜的磁学性质
  参考文献
第3章  真空蒸发镀膜
  3.1  真空蒸发镀膜技术
    3.1.1  真空蒸发镀膜原理及蒸镀条件
    3.1.2  薄膜材料
    3.1.3  合金膜的蒸镀
    3.1.4  化合物膜的蒸镀
    3.1.5  影响真空蒸镀性能的因素
  3.2  分子束外延技术
    3.2.1  分子束外延生长的基本原理与过程
  ……
第4章  真空溅射镀膜
第5章  真空离子镀膜
第6章  离子束沉积与离子束辅助沉积
第7章  化学气相沉积
第8章  薄膜的测量与监控
第9章  薄膜性能分析

内容大纲

作者介绍

目录

同类热销排行榜

推荐书目