- 二次电子发射理论及应用(精)/空间科学与技术研究丛书
- - 作者：封国宝//崔万照//王芳//苗光辉|责编:陈莉华
  - 出版社：北京理工大学
  - ISBN：9787576314144
  - 出版日期：2022/07/01
  - 页数：238
- 售价：30.4

内容大纲
本书内容主要聚焦于二次电子发射的理论模型和相关应用方面，在部分章节列举了几个典型案例展开讨论。本书的内容涵盖了二次电子的发射理论模型、测量、数据结果、表面工艺、介质带电分析以及典型应用场景介绍。内容涉及粒子物理理论、仿真算法、磁流体力学、表面工艺、表面表征等多个领域。
本书共分为6章，其中，第1章为绪论，介绍了二次电子发射和与此相关的介质带电概念和现状。第2章介绍了4种主要二次电子发射模型，以及分别针对导电金属和导电不良体的介质研制的测试平台，此外，还列出了部分典型金属和介质材料的二次电子发射数据。第3章介绍了常用二次电子发射表面调控技术，列举了几种用于抑制二次电子发射的表面陷阱结构和用于表面调控的材料工艺。第4章介绍了电子轰击表面的带电效应和二次电子发射在带电状态下的动态特性。第5章简要叙述了电子轰击对材料的影响。第6章讲述了二次电子发射在微波部件微放电和电子显微成像领域的应用，并展开了进一步分析。
作者介绍
目录
第1章  绪论
  1.1  基本概念
  1.2  应用背景
  1.3  研究现状
    1.3.1  二次电子发射特性约研究
    1.3.2  介质材料的带电特性研究
    1.3.3  二次电子动态发射
第2章  二次电子发射理论模型及测量
  2.1  二次电子发射数值理论模型
    2.1.1  Vaughan模型
    2.1.2  Furman模型
    2.1.3  Monte Carlo数值模型
    2.1.4  半物理模型
  2.2  二次电子发射的测量
    2.2.1  金属材料的二次电子发射测量
    2.2.2  介质材料的二次电子发射测量
  2.3  典型材料二次电子产额测量结果
    2.3.1  常见金属材料的二次电子发射产额及能谱测量数据
    2.3.2  常见介质材料的二次电子发射产额测量数据
第3章  二次电子发射表面调控技术
  3.1  表面微结构抑制二次电子发射
    3.1.1  表面构型抑制二次电子的基本原理
    3.1.2  样品表面规则槽结构
    3.1.3  收拢式表面陷阱结构
    3.1.4  二维嵌套式陷阱结构抑制二次电子发射
    3.1.5  抑制二次电子的表面构型技术工艺
  3.2  表面镀膜调控二次电子发射
    3.2.1  表面镀膜技术调控SEY的原理
    3.2.2  表面镀膜技术抑制SEY
    3.2.3  表面镀膜技术增强SEY
    3.2.4  其他技术
    3.2.5  表面镀膜技术与表面构型技术的结合
第4章  介质材料的带电及二次电子动态发射
  4.1  电子照射介质材料带电特性
    4.1.1  电荷输运理论及模型
    4.1.2  充电动态模拟流程
    4.1.3  电子辐照介质带电分布特性
  4.2  介质带电下的二次电子发射动态特性
    4.2.1  带电平衡数值模型
    4.2.2  样品参数对平衡模式的影响
第5章  电子轰击对介质材料的影响
  5.1  电子辐照带电效应下的微波介电特性
    5.1.1  多能量电子束辐照
    5.1.2  带电效应影响介电常数
    5.1.3  对DRA的影响
  5.2  电子轰击对材料表面的影响
    5.2.1  放电所需的电子辐照量测试
    5.2.2  表面放电电位数值模拟
    5.2.3  电子轰击下的表面释气
    5.2.4  表面化学键与表面形貌

第6章  二次电子发射的应用
  6.1  微放电效应
    6.1.1  微放电仿真方法
    6.1.2  微放电动态过程分析
    6.1.3  二次电子对微放电的影响
  6.2  显微成像中的二次电子
    6.2.1  二次电子成像的应用
    6.2.2  带埋层结构的介质表面的二次电子倍增
参考文献
索引

内容大纲

作者介绍

目录

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