- 真空镀膜技术与应用
- - 作者：编者:田灿鑫|责编:李兰英
  - 出版社：武汉理工
  - ISBN：9787562969792
  - 出版日期：2024/05/01
  - 页数：234
- 售价：39.2

内容大纲
本书内容涵盖了真空镀膜的关键技术和实际应用。在介绍真空镀膜技术基础理论及应用的基础上，着重阐述了真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、等离子体增强化学气相沉积的原理、工艺、应用等，紧接着介绍了薄膜厚度的测量、薄膜分析检测技术等方面的内容，最后详细阐述了工模具真空镀膜生产线的具体工艺流程。本书叙述深入浅出，内容丰富而精炼，工程实践性强，在强化理论的同时，重点突出了工程应用，賄很强的实用性。本书适合从事真空镀膜技术、薄膜与表面工程、材料工程等领域的研究、设计、设备操作及维护工作的技术人员阅读参考。
作者介绍
目录
1  真空镀膜技术概论
  1.1  真空镀膜技术分类
  1.2  真空基础知识
  1.3  真空镀膜系统
  1.4  真空的获得
  1.5  真空的测量
  1.6  真空镀膜技术的应用
2  真空蒸发镀膜
  2.1  真空蒸发镀膜的原理
  2.2  蒸发加热方式及蒸发源
  2.3  真空蒸镀工艺
  2.4  真空蒸发镀膜技术的应用
3  真空溅射镀膜
  3.1  溅射镀膜的特点
  3.2  溅射的基本原理
  3.3  直流溅射
  3.4  射频溅射
  3.5  磁控溅射
  3.6  高功率脉冲磁控溅射
  3.7  真空溅射镀膜技术的应用
4  真空离子镀膜
  4.1  真空离子镀膜的分类
  4.2  离子镀技术的原理
  4.3  空心阴极离子镀
  4.4  电弧离子镀膜
  4.5  离子束沉积技术
  4.6  真空离子镀膜技术的应用
5  等离子体增强化学气相沉积
  5.1  化学气相沉积技术
  5.2  等离子体增强化学气相沉积原理
  5.3  等离子体增强化学气相沉积技术特点及发展趋势
  5.4  等离子体增强化学气相沉积技术类型
  5.5  各种新型等离子体增强化学气相沉积技术
  5.6  等离子体增强化学气相沉积技术的应用
6  工模具真空镀膜生产线
  6.1  PVD工模具涂层生产线
  6.2  TiN、CrN涂层、AlCrN、AlTiN涂层
  6.3  纳米晶非晶复合涂层TiSiN、TiBN
  6.4  多元多层涂层、高熵合金涂层
参考文献

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