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    • 极简图解半导体技术基本原理(原书第3版)/易学易懂的理工科普丛书
      • 作者:(日)西久保靖彦|责编:任鑫//朱林|译者:王卫兵//张振宇//刘东举
      • 出版社:机械工业
      • ISBN:9787111752226
      • 出版日期:2024/07/01
      • 页数:265
    • 售价:31.6
  • 内容大纲

        在半导体芯片被广泛关注的当下,本书旨在为广大读者提供一本通俗易懂和全面了解半导体芯片原理、设计、制造工艺的学习参考书。
        《极简图解半导体技术基本原理(原书第3版)》以图解的形式,简单明了地介绍了什么是半导体以及半导体的物理特性,什么是IC、ISI以及其类型、工作原理和应用领域。在此基础上详细介绍了ISI的开发与设计、ISI制造的前端工程、ISI制造的后端工程以使读者全面了解集成电路芯片的设计技术、制造工艺和测试、封装技术。最后,介绍了代表性半导体元件以及半导体工艺的发展极限。
        本书面向电子技术,特别是半导体技术领域的工程技术人员、大专院校的学生,作为专业技术学习资料,同时也可作为广大科技爱好者了解半导体技术的科普读物。通过本书的阅读,读者可以快速了解半导体集成电路芯片技术的全貌,同时在理论上对其原理和制造方法进行全面分析和理解,从而为实际的开发打下深厚的理论基础,为技术创新提供具有启发性的方向和路径。
  • 作者介绍

        西久保靖彦,毕业于电信大学后,曾在市民钟表株式会社技术研究所、日本印刷株式会社电子设计研究所、Inotec株式会社和三荣高科技株式会社等多家公司工作。目前担任Westplain公司的企业法人代表,曾担任静冈大学的客座教授。也曾在市民钟表株式会社从事水晶手表的CMOS.IC开发工作,从半导体产业的早期就参与其中。
  • 目录

    译者序
    原书前言
    第1章  什么是半导体?
      需要了解的基本物理知识
      1-1  什么是半导体?
      1-2  导体和绝缘体有什么不同?
      1-3  半导体的双重导电性:从绝缘体到导体的质变
      1-4  半导体材料硅是什么?
      1-5  根据杂质类型的不同制成P型半导体和N型半导体
      1-6  N型半导体和P型半导体的能带结构——能级提升的真正原因是什么?
      1-7  搭载LSI的基板——硅晶圆的制造方法
    第2章  什么是IC、LSI?
      LSI的类型和应用
      2-1  实现高性能电子设备的LSI
      2-2  硅晶圆上的LSI
      2-3  LSI有哪些种类?
      2-4  按功能对LSI进行分类
      2-5  存储器的类型
      2-6  定制ASIC有哪些种类?
      2-7  微型计算机的组成
      2-8  所有功能向单片化、系统LSI的方向发展
      2-9  搭载系统LSI的设备——手机发生的变化
      2-10  搭载系统LSI的设备——数码相机的变化
    第3章  半导体元件的基本操作
      晶体管的基本原理
      3-1  PN结是半导体的根本
      3-2  使电流单一方向流动的二极管
      3-3  双极型晶体管的基本原理
      3-4  LSI的基本元件MOS晶体管(PMOS、NMOS)
      3-5  什么是最常用的CMOS?
      3-6  存储器DRAM的基本构造和工作原理
      3-7  什么是活跃于移动设备的闪存?
      3-8  DRAM、闪存及下一代通用存储器
    第4章  数字电路原理
      了解如何进行计算
      4-1  模拟量和数字量有什么不同?
      4-2  数字处理的基础——什么是二进制数?
      4-3  LSI逻辑电路的基础——布尔代数
      4-4  LSI中使用的基本逻辑门
      4-5  用逻辑门进行十进制数到二进制数的转换
      4-6  数字电路中如何实现加法运算(加法器)?
      4-7  数字电路中如何实现减法运算(减法器)?
      4-8  其他重要的基本数字电路
    第5章  LSI的开发与设计
      设计工程是怎样的
      5-1  LSI开发——从规划到产品化
      5-2  功能设计——确定想要实现什么样的功能
      5-3  逻辑设计——逻辑门级的功能确认
      5-4  版图/掩模设计——在保证电气性能的前提下实现芯片最小化
      5-5  电路设计——更详细的晶体管级设计

      5-6  光掩模——LSI制造过程中使用的版图原版
      5-7  最新的设计技术趋势——基于软件技术、IP利用的设计
      5-8  LSI电气特性的缺陷分析与评价——如何进行出厂测试?
    第6章  LSI制造的前端工程
      硅芯片是如何制成的?
      6-1  半导体生产的全过程概览
      6-2  清洗技术和清洗设备
      6-3  沉积技术和膜的类型
      6-4  膜是如何成型的?
      6-5  用于精细加工的光刻技术
      6-6  决定晶体管尺寸极限的曝光技术是什么?
      6-7  什么是三维精细加工的蚀刻?
      6-8  什么是杂质扩散工序?
      6-9  连接半导体元件的金属布线
      6-10  通过CMOS反相器了解制造工序
    第7章  LSI制造的后端工程和封装技术
      从封装到测试和发货
      7-1  从硅芯片的封装到测试和发货
      7-2  封装的种类和外形
      7-3  BGA和CSP是什么样的封装?
      7-4  将多个芯片封装在同一个封装中的SIP
      7-5  采用贯通电极TSV的三维封装技术
      7-6  高密度封装技术的进一步发展
    第8章  代表性半导体元件
      8-1  光电半导体的基本原理(发光二极管和光电二极管)
      8-2  作为照明灯具的白色光LED的出现
      8-3  集成大量光电二极管的图像传感器
      8-4  使IT社会的高速通信网络成为可能的半导体激光器
      8-5  蓝光激光器实现了高图像质量和长时间的记录存储
      8-6  有助于节约电能的功率半导体
      8-7  IC卡微处理器
      8-8  改变销售管理机制的无线通信IC电子标签
    第9章  半导体的工艺制程将被微细化到什么程度?
      9-1  晶体管微细化结构的极限
      9-2  微细化加速了电子设备的高性能化
    参考文献