- 高分辨电子束光刻技术及其应用(精)
- - 作者：段辉高//梁惠康//陈艺勤|责编:牛旭东
  - 出版社：国防工业
  - ISBN：9787118142563
  - 出版日期：2026/06/01
  - 页数：311
- 售价：59.6

内容大纲
电子束光刻具有极高的加工精度及无掩模直写的灵活性，在高精度模板制备、微纳器件的原型开发及小批量定制、微纳米科技的基础研究中具有不可替代的作用。本书从装备、工艺、材料、应用四个方面向读者系统地介绍了电子束光刻技术及相关应用，引用了很多国内外科研团队及作者团队开发的微纳加工工艺及器件应用实例，希望能对读者有所启发。
本书可供高等院校的高年级本科生、研究生和青年教师，以及器件设计研发和微纳制造工程师参考。
作者介绍
目录
第1章  绪论
  1.1  概述
  1.2  电子束光刻不可替代的应用
  1.3  电子束光刻的发展历程
  1.4  电子束光刻设备分类
    1.4.1  高斯束电子束光刻设备
    1.4.2  变形束电子束光刻设备
    1.4.3  多束电子束光刻设备
  1.5  电子束光刻的发展趋势
  1.6  国内电子束光刻技术发展现状
  1.7  本书的内容安排
第2章  电子束光刻系统的原理及组成
  2.1  引言
  2.2  电子枪
    2.2.1  电子枪阴极的工作原理
    2.2.2  电子枪阴极材料
    2.2.3  电子束的形成
  2.3  电子光学柱
    2.3.1  电子在电磁场中的运动
    2.3.2  电子透镜
    2.3.3  偏转器
    2.3.4  电子光学柱的对中系统
    2.3.5  束闸
    2.3.6  消像散器
    2.3.7  电子光学柱的像差
  2.4  工件台
    2.4.1  工件台中的精密测量技术
    2.4.2  工件台中的高速、高精度直线驱动技术
    2.4.3  高精密工件台技术中的控制技术
  2.5  图形发生器
    2.5.1  电子束扫描曝光技术
    2.5.2  图形发生器的组成
    2.5.3  电子束曝光中的版图格式与绘制
  2.6  电子束光刻中的真空技术
    2.6.1  真空技术在电子束光刻系统中的作用
    2.6.2  电子束光刻系统中的真空设备
  2.7  电子束光刻系统的运行环境
    2.7.1  安装地点的选择
    2.7.2  防震和防磁
    2.7.3  环境噪声
    2.7.4  超净间
    2.7.5  室内温度、湿度和排气
    2.7.6  供电源
    2.7.7  接地
第3章  电子束光刻材料相互作用及邻近效应仿真
  3.1  电子在材料中的散射
    3.1.1  弹性散射
    3.1.2  非弹性散射
  3.2  电子辐照损伤
    3.2.1  位移损伤

    3.2.2  电离损伤
  3.3  电子能量在材料中的沉积仿真
    3.3.1  能量沉积模型
    3.3.2  点扩散函数的实验参数获取与优化
    3.3.3  版图中的能量沉积分布
  3.4  电子束光刻中的邻近效应及其校正
    3.4.1  电子束光刻中的邻近效应
    3.4.2  邻近效应校正方法
  3.5  电子束光刻中的其他效应模型
    3.5.1  抗蚀剂热效应
    3.5.2  雾化效应
    3.5.3  电荷积累效应
  3.6  邻近效应校正软件
第4章  电子束抗蚀剂及工艺
  4.1  电子束抗蚀剂分类及性能评价
    4.1.1  电子束抗蚀剂的分类
    4.1.2  电子束抗蚀剂性能评价
  4.2  电子束抗蚀剂的工艺流程
    4.2.1  电子束抗蚀剂匀胶前的预处理
    4.2.2  电子束抗蚀剂匀胶
    4.2.3  电子束抗蚀剂热处理
    4.2.4  电子束抗蚀剂曝光
    4.2.5  电子束抗蚀剂显影
    4.2.6  电子束抗蚀剂显影结果评价
  4.3  电子束抗蚀剂显影工艺力学及显影优化
    4.3.1  电子束抗蚀剂中的显影机理及模型
    4.3.2  电子束抗蚀剂中的力学稳定性
    4.3.3  高分辨电子束光刻的显影优化
  4.4  典型的电子束抗蚀剂及工艺
    4.4.1  PMMA及工艺
    4.4.2  ZEP及工艺
    4.4.3  HSQ及工艺
    4.4.4  电子束用化学放大胶及工艺
    4.4.5  其他常规电子束抗蚀剂
  4.5  非常规电子束抗蚀剂及工艺
    4.5.1  生物基抗蚀剂
    4.5.2  水基抗蚀剂
    4.5.3  冰抗蚀剂
    4.5.4  无机抗蚀剂
第5章  基于电子束光刻的图形转移工艺
  5.1  引言
  5.2  图形转移工艺的分类
    5.2.1  剥离工艺
    5.2.2  生长工艺
    5.2.3  填充抛光工艺
    5.2.4  刻蚀工艺
    5.2.5  转印技术
  5.3  三维抗蚀剂图形转移工艺
    5.3.1  悬空抗蚀剂剥离工艺
    5.3.2  双层胶HSQ三维结构制备

    5.3.3  单层HSQ自对准三维结构制备
  5.4  填充－抛光工艺
    5.4.1  负胶填充－抛光工艺
    5.4.2  正胶填充－抛光工艺
  5.5  电子束线描轮廓光刻
    5.5.1  HSQ封闭轮廓光刻
    5.5.2  HSQ半封闭轮廓光刻
    5.5.3  PMMA轮廓光刻
    5.5.4  可剥离PMMA轮廓光刻
  5.6  转印技术
    5.6.1  无黏附金属结构剥离转移工艺
    5.6.2  无损转印抗蚀剂辅助光刻工艺
第6章  电子束光刻的应用
  6.1  等离激元基础研究
    6.1.1  纳米尺度的电动力学验证
    6.1.2  等离激元调制光致发光机理研究
    6.1.3  密集金属纳米间隙的等离激元共振研究
    6.1.4  等离激元纳米天线近场电场强度测量
    6.1.5  对称性破缺等离激元结构研究
    6.1.6  磁光结构中的光频旋磁特性验证
  6.2  结构色器件
    6.2.1  纳米尺度的灰度打印
    6.2.2  光学衍射极限下的全彩色打印
    6.2.3  动态彩色结构色器件
    6.2.4  像素z轴可调的结构色器件
  6.3  平面光学器件
    6.3.1  超构透镜
    6.3.2  新型显示
    6.3.3  光计算
  6.4  其他器件应用
    6.4.1  超高频声表波器件
    6.4.2  高密度磁存储器件
参考文献

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作者介绍

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